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此遺址於1961年7月10日為盛清沂調(diào)查發(fā)現(xiàn),發(fā)現(xiàn)當時遺址所在之山丘東向,為荒蕪之斜坡約50公尺,遺物皆在這斜坡中所采集,其西南向兩面皆為墓田,東地面地表為磚窯取土所破壞,在墓田處因居民遷移墓葬所發(fā)掘之土坑斷面,約深1公尺處可見出土遺物密集及廢料頗多,且發(fā)現(xiàn)僅一層文化層堆積,唯因地表過於荒蕪,所以無法確定遺址的范圍(盛清沂1962)。該次的調(diào)查共采集11件遺物,分為陶器和石器二大類,有砂巖制打制石鋤3件、蛇紋巖制扁平石鑿(似為廢器重制)、板巖制有穿石鏃、板巖制石鏃、二縊型網(wǎng)墜3件、砝碼型網(wǎng)墜等;陶器僅1件,為紅褐色粗砂灰胎制陶紡輪。這批遺物與土地公山遺址所出土的遺物不論在型制、質(zhì)料、取材、和制法上而言,均無不同(盛清沂1962),因此可推知這個遺址與土地公山遺址同為「圓山文化」晚期的土地公山類型,年代大約在2800~1800B.P(劉益昌等2004)。
1980年「全省重要史蹟勘察與整修建議--考古遺址與舊社部分」計畫、1990年9-11月「臺灣地區(qū)史前考古資料調(diào)查研究計畫」執(zhí)行時,覆查過此遺址,及至最近2004年1月15日,「臺閩考古遺址普查計畫第七期」計畫進行下,盧瑞櫻亦覆查過此遺址,唯調(diào)查時,遺址所在山丘己經(jīng)消失,遺址附近皆為新店市街道及廠房的一部份(通用先進公司),遺址恐已遭破壞。
參考資料
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